000 01214nam a22002777c 4500
001 000025460
003 RuMoIPM
005 20251117202534.0
008 251105s1990 ru ||||| |||| 00| 0 rus d
022 _a2071-2898 (Print)
022 _a2071-2901 (Online)
035 _abiblionumber
040 _aRuMoIPM
_brus
_ercr
041 _arus
044 _aru
245 _a№ 132. Универсальная электронная неустойчивость тонкой плазмы низкой плотности
_cС. В. Басова, С. А. Варенцова, А. В. Гордеев [и др.]
260 _c1990
490 0 _aПрепринты ИПМ им. М.В. Келдыша / Институт прикладной математики имени М.В. Келдыша Российской академии наук
700 1 _aБасова, С. В.
700 1 _aВаренцова, С. А.
700 1 _aГордеев, А. В.
700 1 _aГулин, А. В.
700 1 _aШуваев, В. Ю.
773 0 8 _w000024324
_7nnas
_dМосква: ИПМ им. М. В. Келдыша РАН
_tПрепринты ИПМ им.М.В.Келдыша. - 1990
_x2071-2898 (Print)
942 _cPR
999 _c25460
_d25460